技術情報

真空蒸着とは

弊社では真空蒸着という手法を用いて光学薄膜を成膜しております。基本的な原理は、蒸発する分子中に成膜したい基板を所定の膜厚になるまでかざすというものです。

これは、下記の写真のように、沸騰する水の上を眼鏡を掛けて覗くと、レンズに水蒸気が付着するという単純な現象を工業的に応用しただけと言えるでしょう。

実際の光学薄膜では、加熱された材料が空気によって基板に到達するのを阻害されてしまう事を防止するため、真空槽の中で加熱します。

実際の装置では

蒸着材料としては下記のようなものが多く使用されます。

低屈折率材料 MgF2
SiO2
中屈折率材料 Al2O3
高屈折率材料 ZrO2
TiO2
Ta2O5
Nb2O5
HfO2

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